在IBM工作的林本坚也不能放过。

        这位对于浸没式光刻技术有鬼才一般的想法，必须要招揽。

        此时，这位天才就有了浸没式光刻技术的想法。

        当芯片制程卡在65nm之际，林本坚看到浸没式光刻技术的机会。

        为解决技术难题、消除厂商疑虑，林本坚还花费半年时间带领团队发表3篇论文。

        当时，业界质疑水作为一种清洁剂，会把镜头上的脏东西洗出来，还有人担忧水中的气泡、光线明暗等因素会影响折射效果。

        而根据林本坚团队的研究，他们提出一种曝光机，可以保持水的洁净度和温度，使水不起气泡。

        虽然这种曝光机并未在实际中被采用，但林本坚的研究证明技术上的难题是可以被解决的。

        他还亲自奔赴美国、日本、德国、荷兰等地，向光刻机厂商介绍浸没式光刻的想法，但是，有能力进行研发的大厂普遍不买账。

        个中原因也不难理解，自20世纪60年代起，玩家入局光刻机市场，在干式光刻技术上投入大量财力、人力、物力，好不容易踏出一条可行的技术路线。

        如果按照林本坚“加水”的想法，各位前辈就得“一夜回到解放前”，从技术到设备重新探索，很少有人舍得这么高的沉没成本。

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